首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   6篇
  免费   1篇
  2022年   1篇
  2020年   1篇
  2005年   1篇
  2002年   1篇
  2000年   2篇
  1999年   1篇
排序方式: 共有7条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1
1.
研究了超声波辅助提取褐藻糖胶的新工艺,以“硫酸根+多糖”质量分数作为产品的主要理化指标,得到优化的提取工艺。硫酸根和多糖质量分数分别达到22.49%和36.97%。  相似文献   
2.
介绍了离子交换膜分离技术原理及其在氨基酸制备中的应用工艺 ,设计提出了新型反馈离子交换膜分离工艺 ,取代传统的老工艺 ,实现了工业化大生产。  相似文献   
3.
从自然发酵的火龙果酵素、青梅酵素和葡萄酵素中筛选酵母菌,对筛选到的菌株进行鉴定及耐受性试验。从两种火龙果酵素中筛选到3株菌:P_1、P_2和P_3,从青梅酵素中筛选到2株菌:PM_1和PM_2,从葡萄酵素中筛选到2株菌:G_1和G_2;分子生物学鉴定结果显示:P_3、PM_1、PM_2和G_2为鲁氏接合酵母,P_1为酿酒酵母,P_2和G_1为丘陵假丝酵母。耐受性试验结果表明:筛选出的菌株在起始pH为2. 5、3. 0、3. 5以及初始葡萄糖含量为300、400、600、750 g/L的培养基上均可生长,其中P_2、PM_1和G_1在培养基起始pH为2. 0时可生长;P_2在培养基起始pH为1. 5时可生长;筛选出的菌株均具有耐低pH和耐高糖的特性。  相似文献   
4.
采用不同的氯离子(Cl-)含量测试方法(摩尔法、氯离子选择电极法、电位滴定法、电导法、比浊法),对甘氨酸合成中各步骤的产物分别进行Cl-含量测试,确定出相适应的测定方法。  相似文献   
5.
离子膜法DL-α-丙氨酸清洁工艺研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
提出了多元溶剂循环合成和离子膜法分离DL α 丙氨酸新工艺 ,探讨了新工艺的清洁生产特点。多元溶剂循环合成中催化剂和未反应完的反应原料可循环使用 ,催化剂减少至原来用量的 1/3,反应控制更准确。离子膜分离过程采用反馈式离子膜分离装置 ,在反馈系统作用下 ,不需等电聚焦 ,部分电离迁移的DL α 丙氨酸可反馈回来 ,氨基酸的逃离率比以往的等电聚焦电渗析法大幅下降 ,由一般为 2 0 %~ 40 %降至 10 %以下 ;本系统电流效率可达 70 %以上 ,电流密度较高 ,增强了生产能力。总收率由老工艺的 6 0 %提高到 70 %。分离新工艺避免使用大量有毒易燃溶剂甲醇 ,新工艺采用了洁净能源———电力 ,降低能耗 5 0 %以上。避免了使用易受氯化铵腐蚀的大型精馏塔。新工艺符合当前大力提倡的减污、降耗、综合利用的清洁生产发展潮流  相似文献   
6.
为实现霍山石斛的全质利用和高值化利用,以接种酿酒酵母发酵与自然发酵两种工艺制备霍山石斛酵素,研究不同工艺发酵过程中代谢物(有机酸、总酚、总糖等)和抗氧化活性(OH·清除率、ABTS·清除率、还原力)的变化趋势,并结合多元统计分析,建立综合评价指标。结果表明,酿酒酵母发酵组的酵母菌数量高于自然发酵组;自然发酵组检测到的4种有机酸的含量均高于酿酒酵母发酵组,其中乳酸和乙酸含量均呈上升趋势;酿酒酵母发酵组的草酸含量明显下降,而自然发酵组的草酸含量没有明显变化。酿酒酵母发酵组与自然发酵组的总酚含量分别下降了24.02%、24.98%;总糖含量分别下降了64.21%、22.89%;pH值分别下降了0.12和0.24,总酸含量分别增加了62.98%、70.98%;糖酸比分别降低了80.13%、59.47%,酿酒酵母生产的酵素口感以酸甜为主,自然发酵的酵素口感以甜为主。在抗氧化方面,酿酒酵母发酵组显著高于自然发酵组,OH·清除能力分别提高了42.57%和40.67%;ABTS·清除能力分别提高了55.36%和30.06%;还原力无显著变化。相关性分析和主成分分析结果表明乳酸、乙酸等有机酸具有一定的抗氧化性。酵母菌发酵第 14 d的综合评价指标达到阶段高点,酵母菌生长数量在14 d后趋于稳定,进入生长稳定期,可作为最佳发酵节点。综上结果表明酿酒酵母发酵相较于自然发酵霍山石斛提高了抗氧化活性,丰富了酵素口感,缩短了发酵时间,酵素品质较好。  相似文献   
7.
离子膜法技术在氨基酸制备中的探讨   总被引:1,自引:0,他引:1  
介绍了离子交换膜分离技术原理及其在氨基酸制备中的应用工艺,设计提出了新型反馈离子交换膜分离工艺,取代传统的老工艺,实现了工业化大生产。  相似文献   
1
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号