纳米氢氧化铜暴露对水培生菜生长变化的影响

研究以生菜(Lactuca sativa L.)为考察对象, 探讨纳米氢氧化铜[nano-Cu(OH)₂]不同暴露浓度(0、1和50 mg/L)与时间(7d、14d、21d和28d)对水培生菜生长变化的影响。在生菜叶片涂抹nano-Cu(OH)₂过程中发现, 暴露初期(0—14d)Cu主要富集于生菜的老叶(靶器官)中, 且导致老叶失绿泛黄。同时, 老叶中的Cu会不同程度地向新叶(P<0.05)与根(P>0.05)中转移。在暴露后期(14—28d), nano-Cu(OH)₂胁迫对生菜产生不可逆的损伤致使生菜老叶干枯变黄脱落。虽然老叶的脱落阻断了Cu在生菜体内进一步的富集, 但前期累积在老叶中的Cu会继续向新叶与根中转移。在28d的nano-Cu(OH)₂暴露期间, 生菜主要通过调控体内超氧化物歧化酶(SOD)和过氧化物酶(POD)的含量来抵御Cu的胁迫伤害, 且nano-Cu(OH)₂暴露对生菜生长表现出低浓度促进和高浓度抑制的效应。研究表明, nano-Cu(OH)₂对生菜的主要致毒机理来源于它溶出的Cu离子。