高压静电场对过氧化氢酶的稳定作用及机理研究

用高压静电场直接处理过氧化氢酶溶液 ,结果表明 :不同强度的高压静电场能提高和降低过氧化氢酶的活力。电场强度越大 ,酶活力达到平衡所需时间越短。处理后的过氧化氢酶溶液 ,玻棒 30秒的搅拌作用能使酶活力基本上回到原来的状态。溶液极性降低 ,酶活力达到平衡所需时间减少。处于高压静电场中的过氧化氢酶溶液 ,在 2 0℃时 ,电场强度为 3× 10 3V/cm ,活力能保持 5～ 6天 ,而对照只能保持 2～ 3天。在 30℃时 ,同样电场强度下 ,活力能保持 48小时左右 ,对照能保持 2 4小时左右。经高压静电场处理的酶 ,活力保持时间也比对照长。研究表明 :高压静电场对酶活力的稳定作用很可能是高压静电场使酶及溶液发生极化作用产生的。     

Cd胁迫对杂交水稻及其亲本叶片丙二醛含量的影响

以15份杂交水稻及其亲本为材料,采用水培试验研究了不同Cd2＋浓度胁迫对水稻叶片丙二醛（MDA）含量的影响。结果表明：（1）在不同Cd处理水平和生育时期,保持系叶片MDA含量存在差异,如D83B叶片MDA含量各处理显著高于对照（p〈0.05）,MDA积累水平较高,受到Cd严重胁迫,而Ⅱ-32B在两个生育时期受低Cd浓度的影响不大,与对照差异不显著,且随着Cd浓度的增大,MDA含量均表现出较低的MDA积累水平,因此保持系Ⅱ-32B是一种较好的保持系材料。（2）Cd胁迫对恢复系各材料叶片MDA的影响不同,其中以R527、R498叶片MDA积累最明显,孕穗期和灌浆期各处理均显著高于对照,其余恢复系材料受不同Cd2＋浓度的影响,MDA积累不稳定。（3）同一保持系（Ⅱ-32B）与不同恢复系（R498、R549、R892）组合配制的3个杂交稻叶片在MDA含量的增加幅度上表现不同,其中Ⅱ优498、Ⅱ优892受Cd影响较小,无论在孕穗期还是灌浆期叶片MDA含量增幅相对较小,而Ⅱ优549受Cd严重胁迫,各处理均显著高于对照,MDA积累增幅最大。（4）同一恢复系（R498）与不同保持系（Ⅱ-32B、D62B）配制的杂交稻叶片MDA含量亦不同,如D优498仅在孕穗期低浓度下MDA较对照有所降低,其余各处理MDA均积累较多,而Ⅱ优498MDA含量随着Cd浓度的增加,MDA增幅相对较小,可见水稻亲本对子代MDA的积累存在差异,可根据优良亲本,寻找优势组合,培育出抗Cd性强的杂交水稻。