| 摘 要： | 为了研究烷氧乙基汞化合物(ROC2H4HgX)的比较抑其茵活性及其分子结构与抑其菌活性的关系，用培养基法测定其对其菌最低抑制浓度。所用化合物有甲、乙、丙及丁氧乙基汞的氯、醋酸、五氯酚、硫氰酸、对硝基酚及糖精的化合物二十四种和戊及己氧乙基汞的氯、醋酸及五氯酚化合物六种。试验菌种为黑曲霉(Aspergillu，niger)、米曲霉(A．Oryzae)、黄青霉(Penicillium chrysogenum)、康氏木霉(Trichoderma koningi)及拟青霉(Paecilomyces sp．)五种。从最低抑制浓度的数据表明，烷氧乙基汞化合物的抑填菌活性随碳链?甲基至丁基而增加，大于丁基则下降或不增加。化合物分子中的负性基团(X)部分，对于一些其菌虽然多少有一定的抑其菌活性顺序，以对黑曲霉最为明显。但对于不同的真菌负性基团表现不同的活性，因此对于不同的真菌负性基团亦必然有不同的活性顺序。烷氧乙基团对汞原子的活性有影响，对负性基团的活性也可能有影响。如对于一‘种真菌负性基团表现良好的活性顺序，就可以说烷氧乙基团对于负性基团的影响是恒定的。但如烷氧基团对负性基团的活性的影响不一致时，就不容易希望负性基团在不同的烷氧乙基团时有相同的活性顺序。
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