光强和温度变化对曲浒苔光合作用的调节机制

实验针对曲浒苔(Ulva flexuosa)光合作用系统对光照与温度变化的响应进行分子水平探究, 从原初反应、电子传递、光合磷酸化到碳的固定等方面对曲浒苔光合作用响应机制进行解析。叶绿素合成基因在高温高光[30℃、400 μmol/(m2·s)]环境下表达下调。类胡萝卜素合成基因在低温高光[4℃、400 μmol/(m2·s)]环境下表达下调。电子传递链、CF₁F₀-ATP合酶等基因对温度和光照变化的适应能力较弱, 各实验组的相关基因表达量均呈现下调趋势。聚光复合体基因表达量上调。各实验组的光系统Ⅱ反应中心基因均下调, 锰稳定蛋白则普遍上调。不同C₄途径关键酶基因在各个环境中的变化趋势不一致。综合实验结果可以发现曲浒苔对于温度和光照变化具有一定的耐受度, 分析得出温度对曲浒苔光合作用基因的影响较大, 而且高温高光对曲浒苔的影响最显著。