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1.
基于二次正交旋转回归优化大豆根内拮抗菌AF-67发酵工艺
区伟佳
王荣
潘剑文
李华兴
《生物数学学报》
2010,(4):707-712
应用二次正交旋转回归设计,研究培养基关键影响的四因子对大豆根腐生防菌AF-67发酵菌液浓度的影响.优化发酵培养基各成分的最佳配比为:牛肉浸膏1%,蛋白胨3.5%,可溶性淀粉1.8%,葡萄糖1%,发酵24h后稀释10倍工作液的实际光密度值A_(620)为0.743,较LB增殖培养液提高了42%.肯定了模型的可靠性和应用的有效性.
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