应用离子注入技术对家蚕形态学及遗传学进行的初步研究(英文)

离子注入技术是将某种元素的原子进行电离，并使其在电场中加速，在获得较高的速度后射入固体材料表面。在离子注入过程中，被电离的离子在电场作用下加速运动，离子靠着本身获得的动能进入基体表面，在表层中运动的离子与基体原子作用损失能量后在一定的位置停留下来。该技术自６０年代问世以来，主要用于材料改性等方面。８０年代中期，我国学者开始将其用于农作物育种方面的研究，大大拓宽了离子注入技术的应用领域。所用实验材料的基因及表现型见Ｔａｂ３，我们将氢离子（Ｅ＝３５ＭｅＶ）注入处于胚胎发育后期的家蚕卵内（Ｔａｂ１），观察其对家蚕形态及遗传方面的影响，结果表明：（１）在家蚕胚胎发育的已４期注入氢离子，其半致死剂量ＬＤ５０为１ｘ１０１０～１ｘ１０１１ｃｍ２这一区间之内；当剂量达到１ｘ１０１２ｃｍ２时，已全部致死（Ｆｉｇ．１＆Ｔａｂ．２）；（２）注入氢离子能够使家蚕在第１腹节上产生褐斑（Ｆｉｇ．２）的频率增高。并首次观察到因注入氢离子而导致家蚕出现非成对的褐斑（Ｆｉｇ．３＆Ｔａｂ．４）。（３）在氢离子注入剂量为１ｘ１０１０ｃｍ２时，能够诱变产生大量的嵌合体家蚕，并且诱变频率高达３８．５％（Ｆｉｇ．４＆Ｔａｂ．５），这样高的

Initial Work on Applying Ion Implantation Technology in Silkworm Bombyx mori L. Morphology and Genetics Studies 1