水稻高温敏感侧根缺失突变体k209的鉴定和基因定位

该研究以甲基磺酸乙酯（EMS）诱变得到的1个水稻高温敏感侧根缺失突变体k209及其野生型Kasalath为材料，在常温（白天32 ℃/夜晚22 ℃）和高温（34 ℃恒温）培养条件下，对其7 d龄幼苗进行表型比较鉴定，并采用亚甲基蓝染色观察侧根原基形成；以突变体k209为母本，分别与野生型Kasalath和粳稻品种日本晴杂交构建2个F₂群体进行遗传分析和基因定位，确定基因所属染色体以及在该染色体上的位置。结果表明：（1）在正常温度培养下，突变体k209的7 d龄幼苗株高、主根长和不定根长均与野生型Kasalath相似，但侧根长度变短，数量也减少；在高温条件下，k209幼苗株高变矮，主根和不定根的长度变短，表现出无侧根表型。（2）亚甲基蓝染色发现，野生型和k209幼苗主根在正常温度和高温条件下均可以观察到侧根原基，但在高温下k209的侧根原基数目明显少于Kasalath，约为Kasalath的58.03%，且不能突破表皮长出侧根。（3）遗传分析表明，k209的突变表型受隐性单基因控制，利用图位克隆技术将K209基因定位于4号染色体的InDel标记7522K和11524K之间，物理距离约4 002 kb。该研究结果为K209基因的克隆和解析水稻侧根的发生机制奠定了基础。

Identification and Gene Mapping of Rice Lateral Rootless Mutant k209 with High Temperature Sensitivity