| 诺卡氏菌形放线菌β-甘露聚糖酶的化学修饰及活性中心的研究 |
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| 引用本文： | 吴襟,何秉旺.诺卡氏菌形放线菌β-甘露聚糖酶的化学修饰及活性中心的研究[J].中国生物化学与分子生物学报,2000,16(2):227-230. |
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| 作者姓名： | 吴襟 何秉旺 |
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| 作者单位： | 中国科学院微生物资源前期开发国家重点实验室，中国科学院微生物研究所，北京 100080 |
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| 基金项目： | 国家“八五”科技攻关项目部分内容(85-722-14-02) |
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| 摘 要： | 分别用 PCMB、NEM、N- AI、NBS等对诺卡氏菌形放线菌β- D-甘露聚糖酶进行化学修饰 ,证明蛋白上的巯基、酪氨酸残基及色氨酸残基是维持酶活性的必需基团 .在加入少量底物后 ,β- D-甘露聚糖酶的最大荧光发射峰从天然状态下的 336nm处蓝移至 332 nm,且峰强度有所增大 .这表明其色氨酸残基隐藏在蛋白内部的疏水区域 .通过对该酶圆二色性扫描光谱的分析 ,表明蛋白内部有二硫键的存在 ;通过巯基乙醇化学修饰的研究 ,表明二硫键是影响该酶热稳定性的一个重要因素 .在蛋白的各种二级结构中 ,α-螺旋、β-折叠、β-转角、自由卷曲的比例分别为 1 6.6%、2 5.4%、2 0 .5%和 37.5% .
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| 关 键 词： | β-甘露聚糖酶 诺卡氏菌形放线菌 化学修饰 活性中心 |
| 收稿时间： | 2000-04-20 |
| 修稿时间： | 1999年7月8日 |
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