| 光系统Ⅱ反应中心D1／D2／cyt b559复合物的组氨酸残基的光照破坏 |
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| 引用本文： | 匡廷云,于振宝.光系统Ⅱ反应中心D1／D2／cyt b559复合物的组氨酸残基的光照破坏[J].Acta Botanica Sinica,1993,35(3):246-248. |
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| 作者姓名： | 匡廷云 于振宝 |
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| 作者单位： | 中国科学院植物研究所，中国科学院植物研究所，中国科学院植物研究所，中国科学院植物研究所，中国科学院植物研究所，中国科学院植物研究所 北京 100044，北京 100044，北京 100044，北京 100044，北京 100044，北京 100044 |
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| 摘 要： | 高等植物在强光照射下光合作用受到抑制。现已普遍认为,光抑制的原初部位是光系统Ⅱ(PS Ⅱ)的反应中心。无论在整个叶片,还是在类囊体膜以及 PS Ⅱ颗粒、放氧颗粒中均能发现光破坏现象。但是,由于在这些颗粒中有许多与光破坏不直接相关的色素和蛋白分子,因此很难确定具体哪个分子受到破坏。而以只含有少数色素和多肽分子的 PSⅡ反应中心 D_1/D_2/cyt b599复合物为材料可以克服这个困难。该反应中心复合物的获得大大推动了光破坏机理的研究。现已证明,D_1/D_2/cyt b559复合物对光照十分敏感,光照可引起原初电子供体 P680的破坏。我们发现该反应中心的破坏是多步
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| 关 键 词： | 光合系统 光合物 反应中心 光破坏 |
LIGHT-INDUCED DAMAGE OF HISTIDINE RESIDUES IN PHOTOSYSTEM II REACTION CENTER D_1/D_2/cyt b559 COMPLEX |
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| Authors: | Kuang Ting-yun Yu Zhen-bao Tang Chong-qin Lu Rong-he Peng De-chuan Tang Pei-song |
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