拟南芥RUS4基因沉默对花药药室内壁次生加厚的影响 |
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引用本文: | 李文超,张艺,赵淑青.拟南芥RUS4基因沉默对花药药室内壁次生加厚的影响[J].中国细胞生物学学报,2019(4). |
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作者姓名: | 李文超 张艺 赵淑青 |
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作者单位: | 化学生物学与分子工程教育部重点实验室山西大学生物技术研究所 |
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摘 要: | RUS4是拟南芥DUF647蛋白家族的一个功能未知的成员。沉默RUS4基因引起植株育性严重下降,但育性下降的具体机制尚不清楚。该研究通过观察RUS4基因沉默突变体(称为RUSamiRNA)不同时期花的发育情况,发现其雌蕊发育正常,雄蕊花丝伸长正常,主要缺陷是花药不能正常开裂;通过对RUS4-amiRNA植株花药发育的细胞形态学观察,发现其药室内壁缺乏次生加厚;qRT-PCR分析表明, RUS4-amiRNA花蕾中与植物次生壁加厚相关的转录因子基因NST1、NST2、MYB103和MYB85以及纤维素合成基因IRX1、IRX3、IRX5和IRX8的表达均大幅降低。该研究表明,RUS4可能通过影响次生壁形成相关基因的表达参与花药药室内壁次生壁的形成。
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