| 核黄素光敏损伤DNA的凝胶电泳 |
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| 引用本文： | 张连文,林维真,潘景喜,韩镇辉,林念芸.核黄素光敏损伤DNA的凝胶电泳[J].中国科学C辑,2001,31(2):178-184. |
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| 作者姓名： | 张连文 林维真 潘景喜 韩镇辉 林念芸 |
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| 作者单位： | 1. 聊城师范学院化学系,
2. 中国科学院上海原子核研究所辐射化学实验室, |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，中国科学院科研项目 |
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| 摘 要： | 以琼脂糖凝胶电泳研究了波长为427~457nm可见光照射下核黄素(VB2)光敏诱导的质粒DNA损伤,结果发现DNA光敏损伤主要与照光量、核黄素和DNA浓度比、溶液中的氧气等有关.在无氧条件下光敏损伤更为显著,证明VB2光敏损伤DNA主要是通过VB2激发三重态与DNA碱基组分间发生电荷转移导致其产生氧化性损伤实现的.表明核黄素光敏损伤DNA时最佳浓度比为bp∶VB2 = 3.5∶1.对照结果表明,单链DNA(ssDNA)比双链DNA(dsDNA)的碱基更易被核黄素敏化发生损伤,这可能是由于ssDNA中碱基暴露的原因.
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| 关 键 词： | 核黄素(VB2) 琼脂糖凝胶电泳 质粒DNA 光敏治疗 |
| 收稿时间： | 2000-05-18 |
| 修稿时间： | 2000-09-29 |
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