| 脑光学成像技术揭示的猫初级视皮层方位倾斜效应 |
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| 作者姓名： | Yu HB Shou TD |
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| 作者单位： | 中国科技大学生命科学学院视觉研究实验室,合肥,230027;复旦大学生命科学学院脑科学研究中心及立人实验室,上海,200433;中国科技大学生命科学学院视觉研究实验室,合肥,230027;复旦大学生命科学学院脑科学研究中心及立人实验室,上海,200433;中国科学院生物物理研究所视觉信息加工开放实验室,北京,100101 |
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| 基金项目： | 中国科学院资助项目,上海-联合利华研究与发展基金,Institute of Biophysics |
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| 摘 要： | 方位倾斜效应（ｏｂｌｉｑｕｅ ｅｆｆｅｃｔ）是人类普遍存在的视觉心理效应。为了检测其神经基础,我们采用脑光学成像方法,对猫初级视觉皮层较大范围内的水平－垂直方位光栅刺激敏感区和倾斜方位光栅刺激敏感区的大小及其反应强度进行了定量分析。结果表明：水平－垂直敏感区比倾斜角敏感区面积大,平均差异为４．７％;水平－垂直方位刺激引起的反应强度整体上比倾斜角方位刺激大。以上结果澄清了以往一些电生理研究结果的不同
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| 关 键 词： | 方位 倾斜效应 光学成像 初级视皮层 |
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